温度&湿度控制单元，能有效维持其表面温度的均一性。经过此设备处理后的空气，温度控制精度可达目标值±0.01℃，充分满足制程环境对温控的要求。该设备的应用，不仅确保了产线环境的稳定，更为产品的高良率提供了坚实保障。

恒温恒湿控制机在基板曝光前，能有效维持其表面温度的均一性。经过此设备处理后的空气，温度控制精度可达目标值±0.01℃，充分满足制程环境对温控的要求。该设备的应用，不仅确保了产线环境的稳定，更为产品的高良率提供了坚实保障。